1965年我国就有了光刻机，为何现在却大幅度落后？背后说明一个道理

导语：

纵观最近的新闻热点，围绕着科技方面的内容，关键词主要是：光刻机、ASML。根据相关的报道，目前ASML在光刻机地位处于霸主地位，而在这方面，我国光刻机技术明显落后于世界很多国家，这是为什么呢？55年前已经有了光刻机，为何会处于如此落后的地步呢？我想大家应该看一下我国在光刻机发展这些年来走过的路子，估计就会知道答案，当然这也说明了一个亘古不变的真理！

上个世纪50年代开始，对于电子半导体行业国家非常重视，并且着力开始发展，到了80年代，这方面的技术已经达到全球前列水平，只比美国差一点而已。根据史料介绍，1979年国内著名的两家专业厂家，即无线电十四厂以及上海元件五厂，可以直接复刻1974年英特尔公司的8080处理器，非常厉害，可见当时咱们国家在半导体技术方面非常先进。已经处于如此高的技术台，为何最后这项技术没落了呢？

我国光刻机技术的发展历程

从上个世纪50年代开始，一直到80年代，我国一直重视科研，所以这段时间取得的成果非常多，除了有专业的研发团队以外，最重要的是这段时间国内有很多著名的科学家在一起发力，比如说钱三强、钱学森等人的力量在不断支持，两弹一星也是这个时间段发展起来的。1965年，由中科院研发的85型接触式光刻机出现了，这是一项非常重大的研究成果，意义非常重大。因为当时在世界上来说，能够研制出光刻机的国家寥寥无几，此技术已经接近世界顶尖水平。此后的20年时间，我国的光刻机技术也在不断发展中。

当65型光刻机研制以后，相关的科研人员继续努力，不断改进，成果不俗。1977年，GK3型的半自动光刻机被成功研制出来，标志着我国在这一技术的又一次升级。1978年，GK4版本的光刻机又出来了，成果一路不断鐢升。1980年，清华大学又传出了喜讯，他们研制出第四代分布式投影光刻机，精度提高到三微米，据了解，这种精度已经达到了国际主流水平。而到了1985年，机电部又有好消息，他们已经研制出分布式光刻机的样机。

从以上的光刻机发展历程来看，在1985年以前，我国在光刻机技术方面的发展是不断往前走的，并且已经接近了世界先进水平，技术一步一步靠前，按当时的发展速度来看，想达到世界顶尖水平只是时间的问题而已。原因也简单，当时世界上拥有如此高的光刻机技术，没有几个国家达到这样的水平，并且国内的科研力量比较集中，大家专注于光刻机技术的发展。而如今已经赶超我们的光刻机生产商，也就是ASML，当时才成立，没有什么可比性。

我国光刻机领域没落的原因

回到当下，我国光刻机已经严重落后，技术差距与国际相比，越来越大，根本无法回到当年的辉煌，这是为什么呢？究其原因，主要是上个世纪80年代我国在光刻机领域方面的重视程度有所改变。

上个世纪80年代，改革开放开始了，很多国外的公司进驻我国，他们带来了先进的技术以及标准的管理制度，有很多国内的企业看到了国外企业生产的产品优势，于是不再自主研发芯片，而是选择了直接进口，原因也简单：价格低，而且质量好。从收益率来看，更加值得。

对于当时的企业来说，如何达到利润最大化就是他们考虑的重点。于是从成本的角度来考虑，他们不继续研发，而是选择了进口芯片为主，就这样，原本一直坚持光刻机研发的企业由主动变成了被动，时间一长，国内对于自主研发的芯片需求越来越少，而是选择了进口来补充。这对于光刻机研制公司来说，他们就处于无法生存的状态，为了活下来，他们选择了转产或者转型，不再涉及到光刻机领域。

我们再来看一下技术层面的问题，上个世纪90年代，光刻机领域陷入了193纳米的技术问题上，一直无法取得突破，这直接导致了更多企业对于光刻机失去了信心。而令大家没有想到的是，1996年，以美国为首的西方国家竟然发布了一份特殊的公约，名为《瓦森纳协定》，涉及到技术出口开始进行严管，借此协定，很多西方国家对中国进行技术封锁，这让一直在光刻机领域无法得到突破的局面变得更加尴尬，更加被动。如此看来，光刻机之所以走向没落，原因主要有三：一是经济发展的原因。二是改革开放国外企业过来竞争的结果。三是西方国家对我国进行技术上的壁垒。

就在我国光刻机技术停滞不动的时候，其他国家趁此机会大力发展，当时在世界最著名的就是尼康，作为半导体公司，它迅速追平了GCA，占了全球三成的半导体市场，而日本国内的日立、佳能等企业开始出手，也占到了5%的市场份额。为什么日本的企业在半导体技术发展如此之快呢？这得益于美国的支持。不过后来美国也对日本的半导体行业进行了制裁，他们开始培育自己的企业，于是ASML成为了一匹黑马，成功上位。

总结。

回顾过去几十年的光刻机发展历史，让我们清楚了解到光刻机为何走向没落的原因，除了国外的因素以外，最重要的是，我们的很多企业只是看中了短期的利益，没有继续攻关，导致他国迅速跟上。所以不要总是将责任放在他人身上，而是从自身寻找原因，对于我国相关的企业来说，光刻机发展需要继续，正视现实，加大投入，支持科研人员继续努力，继续追赶，即便不能回到当年的辉煌，但可以让我们跻身于世界光刻机技术之列，让中国的光刻机发展更快更好。