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中商情报网讯：涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤及显影设备，包括涂胶机、喷胶机和显影机。根据使用方式不同可分为单独使用（Off Line）和联机作业（In Line）。
市场规模
涂胶/显影机作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影）设备，主要通过机械手使晶圆在各系统之间传输和处理，从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺过程，是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。中国大区（含中国台湾地区）前道涂胶显影设备市场规模预计由 2016 年的 8.57 亿美元增长至2023 年的10.26 亿美元，年均复合增长率有望达 7.78%。
数据来源：中商产业研究院整理
竞争格局
TEL 在中国大陆的市占率高达91%，其次为 Screen（迪恩士），占比接近 5%，中国芯源微涂胶显影设备国产化率仅为4%。
更多资料请参考中商产业研究院发布的《中国半导体设备行业市场前景及投资机会研究报告》,同时中商产业研究院还提供产业大数据、产业情报、产业研究报告、产业规划、园区规划、十四五规划、产业招商引资等服务。
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