又一家国产芯片实现5nm芯片量产，留给ASML犹豫的时间不多了

近日芯原股份表示5nm系统芯片一次流片成功，代表着国产芯片又迈出了重要一步，而且由于芯原股份的特殊定位，将有助于更多国产芯片实现先进工艺芯片的量产，这为中国芯片打破芯片制造工艺瓶颈提供支持，震撼了ASML。

芯原股份的定位是一家芯片IP授权企业，即是它自己不直接向市场推出芯片，而是芯片设计代加工企业，即是为手机、平板电脑等芯片设计企业开发定制化解决方案，降低芯片企业开发先进芯片的难度。

此外芯原股份考虑到国内芯片制造技术的限制，开发了芯粒技术，即是将不同功能的芯片集成在同一颗芯片中，提升芯片性能，芯粒技术也是全球当前正积极开发的技术之一，可以有效提升成熟工艺的性能，这次流片的芯片正是集上述功能于一起的芯片。

当前国内最先进的芯片制造工艺是14nm，目前中芯国际正推进N+1、N+2工艺，预计可以接近7nm工艺，与芯原股份的芯片设计方案叠加就可以达到5nm工艺的性能，这对于中国芯片来说无疑是巨大的进步。

此前富满微等国内芯片企业也已实现了5nm封装技术，同样有助于国产芯片突破芯片制造工艺的限制，获得先进性能的芯片，业界人士认为达到7nm的性能就能满足中国制造九成的芯片需求，而达到5nm基本上能满足中国制造的绝大部分需求。

阻碍中国推进先进芯片制造工艺的正是ASML的EUV光刻机，目前仅有ASML能生产EUV光刻机，不过ASML受制于美国而未能对中国出售EUV光刻机，早在2018年中芯国际就支付了1.2亿美元订购EUV光刻机，然而直到目前尚未交付。

中国芯片行业显然不会坐等，研发先进的芯粒技术正是打破芯片制造工艺限制的一个路径，随着中国的芯粒技术突破到5nm，ASML的EUV光刻机对中国芯片制造行业的重要性正在下降，而这对ASML将是打击。

目前全球采购EUV光刻机的芯片制造企业已非常有限，日本芯片企业已研发绕开EUV光刻机的NIL工艺，美国芯片企业美光也已研发绕开EUV光刻机的1β工艺，台积电由于先进工艺产能过剩已不会大规模采购EUV光刻机，Intel的Intel 4工厂已完成设备进驻，如此情况下中国芯片其实已成为ASML最后一个需要采购EUV光刻机的大客户。

如果ASML无法从中国市场获得订单，那么ASML的业绩可能会因此而大幅衰退，日本光刻机则可以借助中国市场重振雄风，ASML回想当年被日本光刻机吊打的日子就不寒而栗。正是有鉴于此，ASML和它所在的荷兰都已发声表示ASML是一家欧洲企业，应该拥有自由出货的权利，近期据称荷兰正与美国商讨允许ASML自由出货EUV光刻机，都可以看出中国在先进性能芯片方面取得的进展已让ASML紧张了。

中国知名院士倪光南指出先进技术是求不来的、买不来的，只有自立自强，而中国在先进芯片技术方面持续的突破已让外媒震惊，显示出中国芯片行业自强不息的精神，相信ASML很快会做出正确的决定，或许EUV光刻机对中国出货的时间正在接近。