>芯片行业进入了衰退期,中国芯片已超车,ASML真后悔了
ASML日前宣布其为欧洲公司而非美国公司,将会积极争取DUV光刻机的出口,并打算在EUV光刻机上与美国进行进一步的合作,并与中国进行更多的芯片合作。
一、中国芯片在逆势而上
令ASML震惊的无疑是中国在建设一条光子晶片生产线,这也就意味着中国在光子晶片领域的发展上有了重大的突破,这将会使目前的晶片技术发生翻天覆地的变化,也会对ASML等国外的晶圆厂商造成巨大的冲击。
中国已经开始着手开发新的晶体管,取代目前的晶体管,以这个速度发展下去,中国很可能会成为第一个商业化的光子晶体管,成为世界上最大的晶体管。
中国的硅芯片还在研发当中,虽然受到了国外的限制,但中国已经开始了自己的芯片生产,14nm技术已经快要成为现实了,因为中国在14nm光刻机上的突破,所以美国并没有禁止14nm以上的技术向中国出口。
中国在不断的研究新技术的同时,也在不断的完善自己的技术,中芯国际的55nmBCD技术,已经超过了意法半导体,而意法的BCD技术,也不过是90nm左右,而中国的独特技术,也让国外的芯片厂商看到了更多的潜力。
二、ASML所面对的压力
所有人都知道,现在的硅基晶片已经到了极限,虽然3nm制程和2nm制程可以让硅晶片的性能得到进一步的提高,但成本却越来越高,台积电的3nm制程,就是因为成本太高,性能不过关,所以没有人愿意接受。
相对于3nm制程而言,2nm制程需要2代EUV光刻机,而2nm制程则要花费三倍于1代EUV,且研发难度会更大,因此2nm制程的高昂成本是否会得到厂商的认同。
像台积电这样的晶片厂商,在购买先进的光刻机时,已经不是很坚定了,因为它的成本太高了,如果没有顾客,他们的投资就会付之东流,这让ASML对二代EUV光刻技术的收益产生了怀疑。
台积电已经决定关掉一些EUV光刻机,SK海力士和美光科技都宣布,明年将会大幅削减EUV光刻机和DUV光刻机,而中国作为他们的客户,在这种情况下,将会变得更加重要。
在光子晶片商业化之前,中国还得依靠目前的晶片技术来扩大自己的产能,中国希望在2025年前能把晶片自给率提高到70%,2021年只有30%,所以ASML可以在中国自由销售光刻机,这对ASML而言,无疑是雪中送炭。
中国前段时间的芯片招标也让ASML吃了一惊,中国竞标了28台光刻机,其中7台是中国自己的光刻机公司,21台日本的光刻机,ASML公司一台都没拿到,很明显,中国的芯片产业已经向ASML发出了信号,光刻机必须要ASML。
ASML现在已经改变了自己的立场,想要摆脱美国的束缚,想要从中国买到更多的芯片,避免自己在这个风雨飘摇的冬天里瑟瑟发抖,ASML现在已经后悔了。
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