北京
当前光刻机市场被荷兰ASML牢牢把持，占据了60%的份额。 而尼康排名第三，差距显著。
据日经中文网报道，为迎头赶上，尼康计划在2024年推出新产品，利用成熟技术，避免违反对华出口管制，并寻求在中国市场扭转颓势。
在预测2023财年合并净利润将同比下降22%至350亿日元后，尼康显示出对半导体设备和相机影像业务的担忧。尽管高档微单相机销售强劲，但精机业务的低迷影响明显。
尽管尼康曾在1990年代领导市场，但在极紫外设备开发方面输给了ASML。公司经营资源分散，1990年代主要向美国英特尔销售尖端设备，但在拓展其他客户方面进展缓慢。
光刻机作为半导体制造的核心，尼康在全球市场份额仅为7%，远远落后于ASML（60%）和佳能（31%）。为了应对ASML在极紫外（EUV）设备领域的竞争失 利， 作为打开局面的对策，尼康将于2024年夏季时隔24年推出采用成熟技术的光刻机新产品。该款设备使用了1990年代初实用化、被称为“i线”的老一代光源技术。 这一举措旨在利用成熟技术，减少成本，可能使产品价格比竞争对手佳能便宜2～3成左右。
同时尼康计划通过推出采用老一代技术的设备，规避管制，积极开拓中国市场。这也与实用化已过去四分之一个世纪的“i线”等老一代设备不受出口管制的趋势相符。精机业务本部长滨谷正人表示，正在积极与经济产业省讨论，认为产品不在出口管制范围内，将在中国积极销售。在对华出口管制的背景下，尼康能否通过开拓中国市场扭转局势，将成为其东山再起的关键。
尼康计划明年夏季上市老一代技术的光刻机：NSR-2205i
据之前的相关报道，尼康表示，NSR-2205iL1 代表了尼康5倍步进技术在过去二十五年中的最重大的更新，将可直接响应客户对这些在芯片制造中发挥重要作用的光刻系统的需求。
从官方公布的参数来看，NSR-2205iL1 曝光光源是 i-line（365nm波长），分辨率≤350nm，NA为 0.45，最大曝光场22 mm x 22 mm。
主要优点
1、提供卓越性价比，同时支持各种需求
NSR-2205iL1 将提供高生产率，同时通过使用多点自动对焦 (AF) 的高精度晶圆测量、先进的晶圆平台调平（通过倾斜放置晶圆的工作台来校正曝光期间曝光图像平面和基板表面之间的偏移的机构）和宽 DOF（扩展的焦深范围）来优化各种半导体制造工艺的良率水平。此外，由于其晶圆厚度和尺寸兼容性、高晶圆翘曲容限以及灵活的功能（包括但不限于支持 碳化硅和 氮化镓加工），它非常适合各种应用。NSR-2205iL1 i-line 步进机将提供卓越的经济性，同时满足芯片制造商的多样化要求。
2、与现有产品和晶圆厂运营兼容
NSR-2205iL1 可以与现有晶圆厂运营兼容，在晶圆厂中拥有尼康 i-line 曝光系统的客户可以继续利用现有的资产和运营，例如光掩模和晶圆曝光解决方案。此外，NSR-2205iL1 还可以补充或替换不再满足制造要求的现有步进式光刻机。
3、专为长期使用和可持续性而设计
NSR-2205iL1 可以放心地长期使用，因为其设计采用通用商用组件，比以往更容易采购零件，并为未来提供更可持续的光刻解决方案。
AMD FPGA线下研讨会推荐：
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
