上海
证券之星消息，根据企查查数据显示天合光能（688599）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“水冷屏及单晶炉”，专利申请号为CN202322753764.5，授权日为2024年6月25日。
专利摘要：本实用新型涉及一种水冷屏及单晶炉，水冷屏包括水冷屏本体、第一进液管、第一出液管和热交换机构，水冷屏本体构造有用于冷却液流通的夹层空间，以及与夹层空间相连通的第一进液口和第一出液口；第一进液管与第一进液口相连，用于流通冷却液；第一出液管与第一出液口相连，以供冷却液流出；第一进液管流经热交换机构，热交换机构能够与第一进液管内的冷却液进行热交换，以对冷却液降温。通过如上结构，使得流入水冷屏本体的夹层空间内的冷却液的温度更低，从而使得水冷屏本体为单晶硅提供的热场的温度更低，从而提高了水冷屏本体的换热速率，进而加速了晶棒的冷却速率，以提升单晶硅的生长速率，提高了晶棒成晶率，进而提高生产效率。
今年以来天合光能新获得专利授权238个，较去年同期增加了186.75%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了15.43亿元，同比增26.42%。
数据来源：企查查
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