上海
证券之星消息，根据企查查数据显示四方光电（688665）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“一种烟尘用光学检测腔室及烟气粉尘测量仪”，专利申请号为CN202420840028.5，授权日为2024年6月28日。
专利摘要：本实用新型提供一种烟尘用光学检测腔室及烟气粉尘测量仪，涉及烟尘检测装置，该气测量仪包括烟尘用光学检测腔室，该烟尘用光学检测腔室包括：主体部、安装通孔、吹扫气道和透镜，主体部具有测量腔室；安装通孔沿其轴向贯穿测量腔室壁面；吹扫气道配置为将测量腔室内部与测量腔室外部连通且其位于测量腔室内部的一端延伸至安装通孔处、并覆盖安装通孔朝向测量腔室内部的开口端；该透镜至少部分穿过开口端伸至吹扫气道内。本实用新型的有益效果为：吹扫气道吹出气体时，可以使透镜的内表面能被整体吹扫，保证透镜凸面的洁净程度，提高烟气粉尘测量仪测量精度。
今年以来四方光电新获得专利授权14个，较去年同期增加了55.56%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了8224.14万元，同比增46.07%。
数据来源：企查查
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