北京
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金融界 2024 年 9 月 11 日消息，天眼查知识产权信息显示，TCL 科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜及其制备方法、光电器件及其制备方法、显示装置“，公开号 CN202310236049.6，申请日期为 2023 年 3 月。
专利摘要显示，本申请的薄膜的制备方法，通过对所述初始薄膜进行蚀刻，以溶解所述初始薄膜的表面层，暴露更多的所述初始薄膜的内部，从而在后续的所述真空脱气处理中更彻底地去除所述初始薄膜中包含的溶剂得到第一膜层，并在进行所述真空脱气处理后，在第一膜层上形成第二膜层得到薄膜，从而对进行过蚀刻的所述初始薄膜进行填补以减小所述薄膜的表面粗糙度，提高所述薄膜的表面平整性。
本文源自：金融界
作者：情报员
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