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金融界2024年11月5日消息，国家知识产权局信息显示，甬矽半导体（宁波）有限公司取得一项名为“镭射印字路径规划方法和镭射装置”的专利，授权公告号CN 114434012 B，申请日期为2022年1月。
本文源自：金融界
作者：情报员
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