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金融界2024年12月2日消息，国家知识产权局信息显示，浙江正金石半导体设备有限公司申请一项名为“用于cds/cms/sds/cmp光刻刻蚀的化学液浓度监控设备”的专利，公开号CN 119050015 A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明公开了用于cds/cms/sds/cmp光刻刻蚀的化学液浓度监控设备，包括循环管道、泵、控制器和化学容器，化学容器和泵均设置在循环管道上，化学容器上连接有补气管，循环管道上连接有进液管和出液管，出液管上设置有出液阀，循环管道上设置有浓度传感器，浓度传感器与控制器电连接，浓度传感器包括传感器主体和多通管件，多通管件内设有供液体通过的液体通道，多通管件包括第一接头和第二接头，第一接头连接循环管道，出液管连接在第二接头上，传感器主体连接于多通管件上对液体通道内流过的液体进行浓度检测并传输信号到控制器，控制器连接显示屏，在线检测的浓度传感器可以减少人工在设备的取样以及送样过程中化学液渗漏的问题。
本文源自：金融界
作者：情报员
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