北京
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金融界2024年12月5日消息，国家知识产权局信息显示，京东方科技集团股份有限公司申请一项名为“薄膜晶体管、显示基板及其制作方法、显示装置”的专利，公开号 CN 119069540 A，申请日期为2023年5月。
专利摘要显示，一种薄膜晶体管、显示基板及其制作方法、显示装置，薄膜晶体管包括设置在衬底基板上的：栅极和有源层，所述有源层包括：第一导电部第二导电部以及连接在二者之间的沟道部，所述沟道部与栅极相对设置且彼此绝缘，所述有源层的材料包括金属氧化物MxNyOz，其中M和N分别包括锌、铟、镓、锡、镧系金属中的任意一种或多种，O为氧元素，x、y和z均为大于0的自然数，且0.8≤x+y+z≤1.0。
本文源自：金融界
作者：情报员
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