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金融界2024年12月9日消息，国家知识产权局信息显示，沈阳仪表科学研究院有限公司申请一项名为“基于不透明点阵的中性密度滤光片”的专利，公开号CN 119087568 A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明属于光学元件领域，尤其涉及一种基于不透明点阵的中性密度滤光片,包括透明基底，在所述透明基底上镀制或印制不透明点阵，通过减小通光面积实现对光信号的均衡衰减。方点三角形阵列满足：方点正方形阵列满足：圆点三角形阵列满足：圆点正方形阵列满足：其中，r为方点的边长；l为两方点之间的距离；T为透射率。本发明滤光片具有耐高温特性及高中性度，可减少通光面积，达到对光的均衡衰减效果，且可改变其透射率。
本文源自：金融界
作者：情报员
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