金融界2024年12月16日消息,国家知识产权局信息显示,宁波阳明工业技术研究院有限公司申请一项名为“半导体研磨抛光装置”的专利,公开号 CN 119115804 A,申请日期为2024年9月。
专利摘要显示,本发明属于半导体加工技术领域,公开了一种半导体研磨抛光装置。半导体研磨抛光装置包括搅拌组件、过滤组件和打磨盘,搅拌组件包括轴杆、搅拌桨和搅拌桶,搅拌桶两端具有开口,用于容置研磨材料和抛光材料;轴杆为中空杆,沿竖直方向延伸并转动设置于搅拌桶内,轴杆设置有出气孔,出气孔能喷射出高压气流,以松散抛光研磨材料;搅拌桨沿水平方向设于轴杆,轴杆转动能带动搅拌桨转动,以搅拌研磨材料和抛光材料;过滤组件包括滤芯和储液箱,抛光材料能从搅拌桶底部流向储液箱,滤芯设于储液箱内,抛光材料能通过滤芯过滤后添加于搅拌桶;打磨盘设于轴杆,随轴杆转动并打磨抛光半导体。通过搅拌组件和过滤组件,提高半导体加工精度及品质。
本文源自:金融界
作者:情报员
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