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金融界2024年12月18日消息，国家知识产权局信息显示，赛瑞达智能电子装备（无锡）有限公司取得一项名为“一种立式LPCVD设备工艺腔室”的专利，授权公告号 CN 222160351 U，申请日期为2024年2月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种立式LPCVD设备工艺腔室，旨在提供一种解决石英内管拆装不便问题的立式LPCVD设备工艺腔室，其技术方案要点是，包括石英外管，所述石英外管内还设有工艺管，所述工艺管底端套设有阻流石英套管，所述阻流石英套管底端还设有变径筒，所述变径筒内还设有旋转装置与石英管连接。
本文源自：金融界
作者：情报员
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