河南
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首台极紫外光刻机到手，日本不再掩饰其半导体野心。
代表全球光刻机最高水平的ASML TWINSCAN NXE:3800E光刻机已在RAPIDUS工厂交付并开始安装，用来满足首代量产工艺2nm的制造需求。
这也标志着日本半导体产业复兴的序幕拉开，自从广场协议后日本迫于压力交出半导体市场老大地位后，日本长期在半导体产业的上游布局，在原材料和设备端发力，虽然设备端因为当年忽视湿法刻蚀技术，佳能和尼康被荷兰ASML超越，但在半导体原材料领域日本企业一家独大，特别是在晶圆硅片和光刻胶领域，控制着市场供给。
随着中美科技竞争的日益激烈，半导体产业链全球化分工被打破，供给平衡和安全成为摆在各国面前的重要问题，也代表着大国崛起的机遇。
正因如此，日本政府才重燃夺回半导体霸主的野心，从大力补贴台积电在熊本县和索尼成立合资代工厂，到合纵连横几大日本财团企业成立RAPIDUS，日本对向2纳米制程冲击的野心不再掩饰。
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