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金融界2024年12月26日消息，国家知识产权局信息显示，铠侠股份有限公司申请一项名为“光罩基底、光罩、及光罩的制造方法”的专利，公开号CN 119179227 A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种能减少形成着光罩图案的膜中的光的透过率的区域依存性的光罩基底、光罩、及光罩的制造方法。根据一实施方式，光罩基底具备：衬底；第1透过率调整膜，设置于所述衬底上；移相膜，设置于所述第1透过率调整膜上；及第2透过率调整膜，设置于所述移相膜上。在所述光罩基底中，在具有规定的波长的光透过所述移相膜的情况下，透过所述移相膜及所述第1透过率调整膜的所述光的相位、与在大气中通过的所述光的相位相差约180度，且透过所述移相膜及所述第2透过率调整膜的所述光的相位、与在大气中通过的所述光的相位相差约180度。
本文源自：金融界
作者：情报员
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