北京
金融界2025年1月17日消息，国家知识产权局信息显示，湖北兴福电子材料股份有限公司申请一项名为“一种高氧化硅/氮化硅选择比的BOE蚀刻液”的专利，公开号 CN 119307262 A，申请日期为 2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高氧化硅/ 氮化硅选择比的BOE蚀刻液，所述BOE蚀刻液包括按照质量百分比由以下组分组成，2‑20％的氢氟酸、17‑20％的氟化铵、0.01‑0.5%的添加剂、0.003‑0.3％的消泡剂，其余部分为超纯水。添加剂为芳香醛，可有效提高氧化硅对氮化硅的选择比；消泡剂的作用是改善泡沫，并将芳香醛均匀地分散在BOE蚀刻液中，保证溶液的均一性。本发明中的BOE蚀刻液能够保证氮化硅层较少的被蚀刻，起到提高氧化硅/氮化硅选择比的作用。
天眼查资料显示，湖北兴福电子材料股份有限公司，成立于2008年，位于宜昌市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本26000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北兴福电子材料股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目159次，知识产权方面有商标信息4条，专利信息311条，此外企业还拥有行政许可263个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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