河南
快科技7月30日消息，国产半导体设备厂商御微半导体近日宣布，全新自研的国内首款可完整覆盖90nm至28nm制程节点的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600正式发运国内头部晶圆厂。
掩模版是芯片光刻环节的核心母版，品质直接左右整片晶圆的生产良率，细微缺陷就可能造成整批晶圆报废。
自2025年初初代机型Raptor-500交付后，御微只用520天就完成了从立项到出机的全流程。
Raptor-600针对28nm及以上制程的严苛检测标准，为单价数万至数十万美元的高端掩模版筑牢品质防线。
新设备搭载自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，可同步捕捉各类影响掩模及光刻良率缺陷，配备纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度，配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升。
Raptor-600可分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。
御微半导体总裁王帆表示，Raptor-600是公司自主创新历程中的重要里程碑，填补了国内高端掩模图形缺陷检测设备在90nm至28nm制程节点的关键空白。
公司副总裁孙刚回顾了从立项到出机的技术攻关历程，产品事业部总经理王伟透露，各团队在光电、机电、算法、软件、测试等领域日夜拼搏，才确保整机性能全面跃升。
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
